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单晶炉提拉速度控制系统的设计与分析1　引　言半导体材料是半导体工业的基础材料用提拉的法制成的。其中用量大和用途广泛的是半导体硅。95%以上的半导体器件是用硅材料的，99%以上的集成电路是硅集成电路在单晶硅生产过程中图1示出了单晶炉提拉速度控制系统在单晶硅生产中的作用。提拉杆的运动是靠驱动电机通过减速器在实际单晶炉中。要求提拉速度V能在(0.2～10.0)mm/h内无级调节，它相对于给定信号的线性精度±2%。设计了一种实用的单晶炉提拉速度控制系统，并在实际生产中获得成功应用。2　设计的关键图1示出了单晶炉提拉的工艺过程。提拉控制系统的驱动电机转速n经减速器。生长过程均速提拉的法制成的。

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一种蓝宝石单晶炉，包括:设有炉盖11的炉体1，炉盖11上设有图中未视出的观察窗；所述炉盖11上设有真空部件12，所述真空部件12的数量为两个，围绕炉盖的对称设置，所述真空部件12设有除尘系统；所述真空部件配合真空计使用，根据真空计指针的指向确定是否需要抽真空；如果真空计指向不准确或者不设置真空计的话，可以根据晶体的反应时间或者温场的变化来决定是否抽取真空。受电的动力装置（电动机）及其保护电器支路应垂直与电源电路。5，主电路用垂直线绘制在图的左侧，控制电路用垂直线绘制在图的右侧，控制电路中的耗能元件画在电路的下端。6，图中自左而右或自上而下表示作顺序，并尽可能减少线条和避免线条交叉。7，图中有直接电的交叉导线的连接点（即导线交叉处）要用黑圆点表示。无直接电的交叉导线，交叉处不能画黑圆点。8。4在原理图的上方将图分成若干图区。动力电路的电源电路绘成水平线并标明该区电路的用途与作用，在继电器，接触器线圈下方列有触点表，以说明线圈和触点的从属关系。